• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:
    一種配向膜的形成方法，包括以下步驟。首先，提供光感材料，光感材料定義第一畫素區及第二畫素區，第一畫素區與第二畫素區各定義第一子畫素區及第二子畫素區。然後，於第一次曝光中，以第一曝光方向光線及第二曝光方向光線照射光感材料，以於第一畫素區之第一子畫素區及第二畫素區之第二子畫素區分別形成不同配向位向的第一配向部及第二配向部。然後，於第二次曝光中，以第一曝光方向光線及第二曝光方向光線照射光感材料，以於第一畫素區之第二子畫素區及第二畫素區之第一子畫素區形成不同配向位向的第三配向部及第四配向部。
    公开号:TW201321890A
    申请号:TW100142990
    申请日:2011-11-23
    公开日:2013-06-01
    发明作者:Yao-Jen Ou；Han-Lang Lee；Chien-Chih Wang；Hung-I Tseng
    申请人:Chimei Innolux Corp；
    IPC主号:G03F7-00
    专利说明:
    配向膜的形成方法
    本發明是有關於一種配向膜的形成方法，且特別是有關於一種利用曝光之形成配向膜的形成方法。
    傳統上，形成配向膜之步驟係包含塗佈(Dispensing)、烘烤(Baking)、配向(Aligning)及洗淨(Cleaning)。首先，在兩基板上分別塗佈聚亞醯胺(Polyimide,PI)作為配向膜之材料。然後，藉由燒成爐以進行烘烤，使配向膜熱硬化。然後，在已熱硬化的配向膜上，利用配向設備(例如滾輪)依據一預定方向加以摩擦(rubbing)以形成凹痕。最後，藉由洗淨設備將兩基板洗淨。如此，配向膜上就具有一定方向的凹痕及角度，可使液晶分子依循排列。當二基板皆形成配向膜後，便可進行後續的面板製程，將二基板對位貼合，並填充液晶。
    由於習知技術係採用接觸方式來形成配向膜，即摩擦配向膜以形成凹痕，所以在過程中會殘留粉屑，以致需要洗淨設備來洗淨，因而增加製程步驟及成本。另外，在摩擦時亦可能會產生其他無法預期的凹痕或刮傷而降低良率，而磨擦所引起的靜電問題也容易造成對基板上電路的破壞。此外，配向設備亦會提高生產成本。
    本發明係有關於一種配向膜的製造方法，可簡化製程並降低生產成本之配向膜的製造方法。
    根據本發明之一實施例，提出一種配向膜的形成方法，包括以下步驟。提供一光感材料，光感材料定義一第一畫素區及一第二畫素區，第一畫素區與第二畫素區各定義一第一子畫素區及一第二子畫素區；於一第一次曝光中，以一第一曝光方向光線及一第二曝光方向光線照射光感材料，以於第一畫素區之第一子畫素區及第二畫素區之第二子畫素區分別形成不同配向位向的一第一配向部及一第二配向部；於一第二次曝光中，以第一曝光方向光線及第二曝光方向光線照射光感材料，以於第一畫素區之第二子畫素區及第二畫素區之第一子畫素區形成不同配向位向的一第三配向部及一第四配向部。
    根據本發明之另一實施例，提出一種配向膜的形成方法，包括以下步驟。提供一光感材料，光感材料定義N×M個畫素區，N×M個畫素區各定義N×M個子畫素區；於N×M曝光次數之每一次中，以M個不同曝光方向光線照射光感材料，以於各N×M個畫素區之其中一個子畫素區形成不同配向位向的複數個配向部，其中，N係各M個曝光方向光線的偏振位向的個數。
    為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解，下文特舉實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下：
    本發明一實施例中，提供一光感材料，光感材料定義N×M個畫素區，N×M個畫素區各定義N×M個子畫素區。然後，於N×M曝光次數之每一次中，以M個不同曝光方向光線照射光感材料，以於各N×M個畫素區之其中一個子畫素區形成不同配向位向的N×M個配向部，其中，N係各M個曝光方向光線的偏振位向的數目。如此一來，在N×M曝光次數後，N×M個畫素區中每一者的N×M個子畫素區分別形成N×M個不同配向位向的配向部，以下係進一步舉例說明。
    請參照第1至4B圖，其繪示依照本發明一實施例之配向膜的形成過程圖。以M等於2，且N等於1為例說明。
    如第1圖所示提供光感材料120，光感材料120定義複數個畫素區。以下係以其中二個(N×M)畫素區為例說明，分別是第一畫素區SPA1及第二畫素區SPA2。其中，第一畫素區SPA1與第二畫素區SPA2各定義二子畫素區(N×M)，例如，第一畫素區SPA1定義一第一子畫素區SPA11及一第二子畫素區SPA12，而第二畫素區SPA2定義第一子畫素區SPA21及一第二子畫素區SPA22。
    第一畫素區SPA1之至少一者及/或第二畫素區SPA2至少一者可對應至一液晶顯示面板(未繪示)的單個畫素區。本實施例中，第一畫素區SPA1及第二畫素區SPA2分別對應至液晶顯示面板的二個畫素區；又例如，單個第一畫素區SPA1與單個第二畫素區SPA2可共同對應至液晶顯示面板的單個畫素區；再例如，多個第一畫素區SPA1與多個第二畫素區SPA2。
    如第2圖所示，其繪示依照本發明一實施例中形成配向膜之光罩的上視圖。
    提供二個(N×M)光罩，即一第一光罩MA1及一第二光罩MA2，其中，第一光罩MA1與第二光罩MA2可相鄰配置。
    第一光罩MA1與第二光罩MA2各具有二個(即M個)曝光單元組。例如，第一光罩MA1具有第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12，而第二光罩MA2具有第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22。
    各光罩可具有至少一第一曝光單元及至少一第二曝光單元。當曝光單元的數量係多個時，數個曝光單元構成成一列曝光單元組。以第一曝光單元MA11為例說明，數個第一曝光單元MA11組成第一列曝光單元組，如第2圖中長條虛線MA11’所圍成之區域。其它曝光單元具有相似特徵，容此不再贅述。
    如第2圖之放大圖所示，第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12指的是光罩上的透光區(以粗線繪示)。
    為避免圖式過於複雜，第2圖並未繪示出所有的第一曝光單元MA11(粗線處)，而是以長條虛線MA11’表示六個子曝光區(本實施例不以六個為限)中所有第一曝光單元MA11的分布區域。相似地，第2圖並未繪示出所有的第二曝光單元MA12(粗線處)，而是以長條虛線MA12’表示六個子曝光區中所有第二曝光單元MA12的分布區域。
    如第2圖所示，第一光罩MA1之第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12係沿一移動方向D1(移動方向D1繪示於第3A圖)(如第2圖之左右方向)間隔一距離。另一實施例中，第一光罩MA1之第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12可沿與移動方向D1垂直的方向(如第2圖之上下方向)間隔一距離。
    本實施例中，第一光罩MA1之第一曝光單元MA11的區域對應至第一畫素區SPA1之第一子畫素區SPA11，而第二曝光單元MA12的區域對應至第二畫素區SPA2之第二子畫素區SPA22，使得光線可透過第一曝光單元MA11照射到第一畫素區SPA1之第一子畫素區SPA11，且透過第二曝光單元MA12照射到第二畫素區SPA2之第二子畫素區SPA22。
    如第2圖所示，第二光罩MA2之第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22係沿移動方向D1間隔一距離。另一實施例中，第二光罩MA2之第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22係沿與移動方向D1垂直的方向(如第2圖之上下方向)間隔一距離。
    第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22指的是光罩上的透光區(以粗線繪示)。為避免圖式過於複雜，第2圖並未繪示出所有的第一曝光單元MA21(粗線處)，而是以長條虛線MA21’表示六個子曝光區(本實施例不以六個為限)中所有第一曝光單元MA21的分布區域。相似地，第2圖並未繪示出所有的第二曝光單元MA22(粗線處)，而是以長條虛線MA22’表示六個子曝光區中所有第二曝光單元MA22的分布區域。
    此外，第二光罩MA2之第一曝光單元MA21的區域對應至第二畫素區SPA2之第一子畫素區SPA21，而第二曝光單元MA22的區域對應至第一畫素區SPA1之第二子畫素區SPA12，使得光線可透過第一曝光單元MA21照射到第二畫素區SPA2之第一子畫素區SPA21，而透過第二曝光單元MA22照射到第一畫素區SPA1之第二子畫素區SPA12。
    然後，光感材料120可設於基板130上後，再由一移動平台(未繪示)帶動基板130依序經過第一光罩MA1及第二光罩MA2，以下係進一步說明。
    如第3A圖所示，於第一次曝光中，光感材料120依序經過第一光罩MA1之第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12的過程中，以第一曝光方向光線L1及第二曝光方向光線L2(M個曝光方向)分別透過第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12照射光感材料120，以於第一畫素區SPA1與第二畫素區SPA2之每一者的其中一個子畫素區形成不同配向位向的配向部。進一步地說，由於第一曝光單元MA11的區域對應至第一畫素區SPA1之第一子畫素區SPA11，故光感材料120經過第一光罩MA1之第一曝光單元MA11的過程中，如第3B圖所示，第一畫素區SPA1之第一子畫素區SPA11形成一第一配向部(其配向方向如第3B圖之箭頭所示)。為方便說明，第3B圖僅繪示出一組第一畫素區SPA1與第二畫素區SPA2。此外，由於第二曝光單元MA12的區域對應至第二畫素區SPA2之第二子畫素區SPA22，故光感材料120經過第一光罩MA1之第二曝光單元MA12的過程中，如第3B圖所示，第二畫素區SPA2之第二子畫素區SPA22形成一第二配向部(其配向方向如第3B圖之箭頭所示)。第一配向部及第二配向部之配向位向係相異，本實施例中，第一配向部之配向位向與第二配向部之配向位向係以相差180度為例說明。
    如第3A圖所示，由於第一光罩MA1之第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12係沿移動方向D1間隔一距離，故第一曝光方向光線L1不致照射到第二曝光單元MA12，相似地，第二曝光方向光線L2不致照射到第一曝光單元MA11。
    如第4A圖所示，於第二次曝光中，光感材料120依序經過第二光罩MA2之第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22的過程中，以第一曝光方向光線L1及第二曝光方向光線L2分別透過第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22照射光感材料120，以於第一畫素區SPA1與第二畫素區SPA2之每一者的其中一個子畫素區形成不同配向位向的配向部。進一步地說，由於第一曝光單元MA21的區域對應至第二畫素區SPA2之第一子畫素區SPA21，故當光感材料120經過第一曝光單元MA21的過程中，如第4B圖所示，第二畫素區SPA2之第一子畫素區SPA21形成一第三配向部(其配向方向如第4B圖之箭頭所示)。由於第二曝光單元MA22的區域對應至第一畫素區SPA1之第二子畫素區SPA12，故當光感材料120經過第二曝光單元MA22的過程中，如第4B圖所示，第一畫素區SPA1之第二子畫素區SPA12形成一第四配向部(其配向方向如第4B圖之箭頭所示)。第三配向部之配向位向及第四配向部之配向位向係相異，本實施例中，第三配向部與係以形成相差180度之配向部為例說明。
    如第4A圖所示，由於第二光罩MA2之第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22係沿移動方向D1間隔一距離，故第一曝光方向光線L1不致照射到第二曝光單元MA22，相似地，第二曝光方向光線L2不致照射到第一曝光單元MA21。
    綜合上述，於N等於1且M等於2的實施例中，在每次曝光中，第一畫素區SPA1之一子畫素區(未形成配向部之子畫素區)及第二畫素區SPA2之一子畫素區(未形成配向部之子畫素區)分別形成不同配向位向的配向部。如此，經過二次(N×M)曝光後，每個畫素區之所有的子畫素區皆形成不同配向位向的配向部。這樣一來，光感材料120之各畫素區可使應用其之顯示面板成為一多維顯示域的顯示面板。
    雖然上述實施例之光感材料120係以依序經過第一光罩MA1及第二光罩MA2為例說明，然於另一實施例中，光感材料120亦可依序經過第二光罩MA2及第一光罩MA1。
    在帶動光感材料120經過第一光罩MA1及第二光罩MA2的過程中，可保持對光感材料120之平移，即，本實施例可在不轉動光感材料120的情況下完成基板130的配向作業。
    請參照第5至10B圖，其繪示依照本發明另一實施例之配向膜的形成過程圖。以M等於2，且N等於2為例說明。
    如第5圖所示，提供光感材料120，其中光感材料120定義數個複畫素區。以下係以其中四個(N×M)畫素區為例說明，四個畫素區分別是第一畫素區SPA1、第二畫素區SPA2、第三畫素區SPA3及第四畫素區SPA4。其中，第一畫素區SPA1、第二畫素區SPA2、第三畫素區SPA3及第四畫素區SPA4各定義四個(N×M)子畫素區，例如，第一畫素區SPA1定義一第一子畫素區SPA11、一第二子畫素區SPA12、第三子畫素區SPA13及第四子畫素區SPA14、第二畫素區SPA2定義一第一子畫素區SPA21、一第二子畫素區SPA22、第三子畫素區SPA23及第四子畫素區SPA24、第三畫素區SPA3定義一第一子畫素區SPA31、一第二子畫素區SPA32、第三子畫素區SPA33及第四子畫素區SPA34且第四畫素區SPA4定義一第一子畫素區SPA41、一第二子畫素區SPA42、第三子畫素區SPA43及第四子畫素區SPA44。
    第一畫素區SPA1之至少一者、第二畫素區SPA2之至少一者、第三畫素區SPA3之至少一者及/或第四畫素區SPA4之至少一者可對應至一液晶顯示面板(未繪示)的單個畫素區。本實施例中，第一畫素區SPA1、第二畫素區SPA2、第三畫素區SPA3與第四畫素區SPA4分別對應至液晶顯示面板的四個畫素區；又例如，單個第一畫素區SPA1、單個第二畫素區SPA2、單個第三畫素區SPA3與單個第四畫素區SPA4可共同對應至液晶顯示面板的單個畫素區；再例如，多個第一畫素區SPA1、多個第二畫素區SPA2、多個第三畫素區SPA3與多個第四畫素區SPA4可共同對應至液晶顯示面板的單個畫素區。
    如第6圖所示，其繪示依照本發明另一實施例中形成配向膜之光罩的上視圖。提供四個(N×M)光罩，四個光罩分別是第一光罩MA1、第二光罩MA2、第三光罩MA3及第四光罩MA4。其中，第一光罩MA1、第二光罩MA2、第三光罩MA3及第四光罩MA4可相鄰配置。
    第一光罩MA1、第二光罩MA2、第三光罩MA3及第四光罩MA4各具有二個(M個)曝光單元組。例如，第一光罩MA1具有第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12、第二光罩MA2具有第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA21、第三光罩MA3具有第一曝光單元MA31及第二曝光單元MA32，而第四光罩MA4具有第一曝光單元MA41及第二曝光單元MA42。
    上述曝光單元組指的是光罩上的透光區。為避免圖式過於複雜，第6圖並未繪示出所有第一曝光單元MA11，而是以長條虛線MA11’表示六個子曝光區(本實施例不以六個為限)中所有第一曝光單元MA11的分布區域。相似地，第6圖中長條虛線MA12’、MA21’、MA22’、MA31’、MA32’、MA41’及MA42’係相似的表示，容此不再贅述。
    如第6圖所示，第一光罩MA1之第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12係沿移動方向D1(移動方向D1繪示於第7A圖)(如第6圖之左右方向)間隔一距離。另一實施例中，第一光罩MA1之第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12可沿與移動方向D1垂直的方向(如第6圖之上下方向)間隔一距離。
    本實施例中，第一光罩MA1之第一曝光單元MA11具有第一子曝光單元MA11a及第二子曝光單元MA11b，第一子曝光單元MA11a的區域對應至第一畫素區SPA1之第一子畫素區SPA11，而第二子曝光單元MA11b的區域對應至第三畫素區SPA3之第三子畫素區SPA33。第二曝光單元MA12具有第一子曝光單元MA12a及第二子曝光單元MA12b，第一子曝光單元MA12a的區域對應至第二畫素區SPA2之第二子畫素區SPA22，而第二子曝光單元MA12b對應至第四畫素區SPA4之第四子畫素區SPA44。如此，光線可透過第一曝光單元MA11照射到第一畫素區SPA1之第一子畫素區SPA11及第三畫素區SPA3之第三子畫素區SPA33，且透過第二曝光單元MA12照射到第二畫素區SPA2之第二子畫素區SPA22及第四畫素區SPA4之第四子畫素區SPA44。
    如第6圖所示，第二光罩MA2之第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22係沿移動方向D1間隔一距離。另一實施例中，第二光罩MA2之第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22係沿與移動方向D1垂直的方向間隔一距離。
    本實施例中，第二光罩MA2之第一曝光單元MA21具有第一子曝光單元MA21a及第二子曝光單元MA21b，第一子曝光單元MA21a的區域對應至第一畫素區SPA1之第三子畫素區SPA13，而第二子曝光單元MA21b的區域對應至第三畫素區SPA3之第一子畫素區SPA31。第二曝光單元MA22具有第一子曝光單元MA22a及第二子曝光單元MA22b，第一子曝光單元MA22a的區域對應至第二畫素區SPA2之第四子畫素區SPA24，而第二子曝光單元MA22b對應第四畫素區SPA4之第二子畫素區SPA42。如此，光線可透過第一曝光單元MA21照射到第一畫素區SPA1之第三子畫素區SPA13及第三畫素區SPA3之第一子畫素區SPA31，且透過第二曝光單元MA12照射到第二畫素區SPA2之第四子畫素區SPA24及第四畫素區SPA4之第二子畫素區SPA42。
    如第6圖所示，第三光罩MA3之第一曝光單元MA31及第二曝光單元MA32係沿一移動方向D1間隔一距離。另一實施例中，第三光罩MA3之第一曝光單元MA31及第二曝光單元MA32係沿與移動方向D1垂直的方向間隔一距離。
    本實施例中，第三光罩MA3之第一曝光單元MA31具有第一子曝光單元MA31a及第二子曝光單元MA31b，第一子曝光單元MA31a的區域對應至第二畫素區SPA2之第四子畫素區SPA24，而第二子曝光單元MA31b的區域對應至第四畫素區SPA4之第三子畫素區SPA43。第二曝光單元MA32具有第一子曝光單元MA32a及第二子曝光單元MA32b，第一子曝光單元MA32a的區域對應至第一畫素區SPA1之第二子畫素區SPA12，而第二子曝光單元MA32b對應第三畫素區SPA3之第四子畫素區SPA34。如此，光線可透過第一曝光單元MA31照射到第二畫素區SPA2之第四子畫素區SPA24及第四畫素區SPA4之第三子畫素區SPA43，且透過第二曝光單元MA32照射到第一畫素區SPA1之第二子畫素區SPA12及第三畫素區SPA3之第四子畫素區SPA34。
    如第6圖所示，第四光罩MA4之第一曝光單元MA41及第二曝光單元MA42係沿移動方向D1間隔一距離。另一實施例中，第四光罩MA4之第一曝光單元MA41及第二曝光單元MA42係沿與移動方向D1垂直的方向間隔一距離。
    本實施例中，第四光罩MA4之第一曝光單元MA41具有第一子曝光單元MA41a及第二子曝光單元MA41b，第一子曝光單元MA41a的區域對應至第二畫素區SPA2之第三子畫素區SPA23，而第二子曝光單元MA41b的區域對應至第四畫素區SPA4之第一子畫素區SPA41。第二曝光單元MA42具有第一子曝光單元MA42a及第二子曝光單元MA42b，第一子曝光單元MA42a的區域對應至第一畫素區SPA1之第四子畫素區SPA14，而第二子曝光單元MA42b對應第三畫素區SPA3之第二子畫素區SPA32。如此，光線可透過第一曝光單元MA41照射到第二畫素區SPA2之第三子畫素區SPA23及第四畫素區SPA4之第一子畫素區SPA41，且透過第二曝光單元MA32照射到第一畫素區SPA1之第四子畫素區SPA14及第三畫素區SPA3之第二子畫素區SPA32。
    然後，帶動光感材料120沿移動方向D1移動，並依序經過第一光罩MA1、第二光罩MA2、第三光罩MA3及第四光罩MA4，以下係進一步說明。
    如第7A圖所示，於第一次曝光中，光感材料120依序經過第一光罩MA1之第一曝光單元MA11及第二曝光單元MA12的過程中，以第一曝光方向光線L1及第二曝光方向光線L2分別透過第一曝光單元MA11(第7B圖)及第二曝光單元MA12(第7B圖)照射光感材料120，以於第一畫素區SPA1、第二畫素區SPA2、第三畫素區SPA3及第四畫素區SPA4之每一者的其中一個子畫素區形成不同配向位向的配向部。本實施例中，可搭配一偏光板(未繪示)，使第一曝光方向光線L1透過偏光板與基板相對位置的配置形成不同偏振方向的二光線分別照射至第一曝光單元MA11之第一子曝光單元MA11a及第二子曝光單元MA11b，以於第一畫素區SPA1之第一子畫素區SPA11及第三畫素區SPA3之第三子畫素區SPA33分別形成不同配向位向的配向部，如第7B圖所示。相似地，可搭配偏光板，使第二曝光方向光線L2透過偏光板與基板相對位置的配置形成二不同偏振方向的光線分別照射至第二曝光單元MA12之第一子曝光單元MA21a及第二子曝光單元MA21b，以於第二畫素區SPA2之第二子畫素區SPA22及第四畫素區SPA4之第四子畫素區SPA44分別形成不同配向位向的配向部，如第7B圖所示。本實施例中，形成於第一子畫素區SPA11、第三子畫素區SPA33、第二子畫素區SPA22及第四子畫素區SPA44的配向部的配向位向皆不同。
    如第8A圖所示，於第二次曝光中，光感材料120依序經過第二光罩MA2之第一曝光單元MA21及第二曝光單元MA22的過程中，以第一曝光方向光線L1及第二曝光方向光線L2分別透過第一曝光單元MA21(第8B圖)及第二曝光單元MA22(第8B圖)照射光感材料120，以於第一畫素區SPA1、第二畫素區SPA2、第三畫素區SPA3及第四畫素區SPA4之每一者的其中一個子畫素區(未形成配向部之子畫素區)形成不同配向位向的配向部。本實施例中，可搭配偏光板，使第一曝光方向光線L1透過偏光板形成不同偏振方向的二光線分別照射至第一曝光單元MA21之第一子曝光單元MA21a及第二子曝光單元MA21b，以於第一畫素區SPA1之第三子畫素區SPA13及第三畫素區SPA3之第一子畫素區SPA31分別形成不同配向位向的配向部，如第8B圖所示。相似地，可搭配偏光板，使第二曝光方向光線L2透過偏光板形成二不同偏振方向的光線分別照射至第二曝光單元MA22之第一子曝光單元MA22a及第二子曝光單元MA22b)，以於第二畫素區SPA2之第四子畫素區SPA24及第四畫素區SPA4之第二子畫素區SPA42分別形成不同配向位向的配向部，如第8B圖所示。本實施例中，形成於第三子畫素區SPA13、第一子畫素區SPA31、第四子畫素區SPA24及第二子畫素區SPA42的配向部的配向位向皆不同。
    如第9A圖所示，於第三次曝光中，光感材料120依序經過第三光罩MA3之第一曝光單元MA31及第二曝光單元MA32的過程中，以第一曝光方向光線L1及第二曝光方向光線L2分別透過第一曝光單元MA31(第9B圖)及第二曝光單元MA32(第9B圖)照射光感材料120，以於第一畫素區SPA1、第二畫素區SPA2、第三畫素區SPA3及第四畫素區SPA4之每一者的其中一個子畫素區(未形成配向部之子畫素區)形成不同配向位向的配向部。本實施例中，可搭配偏光板，使第一曝光方向光線L1透過偏光板形成不同偏振方向的二光線分別照射至第一曝光單元MA31之第一子曝光單元MA31a及第二子曝光單元MA31b，以於第一畫素區SPA1之第四子畫素區SPA14及第四畫素區SPA4之第三子畫素區SPA43分別形成不同配向位向的配向部，如第9B圖所示。相似地，可搭配偏光板，使第二曝光方向光線L2透過偏光板形成二不同偏振方向的光線分別照射至第二曝光單元MA32之第一子曝光單元MA32a及第二子曝光單元MA32b，以於第一畫素區SPA1之第二子畫素區SPA12及第三畫素區SPA3之第四子畫素區SPA34分別形成不同配向位向的配向部，如第9B圖所示。本實施例中，形成於第四子畫素區SPA14、第三子畫素區SPA43、第二子畫素區SPA12及第四子畫素區SPA34的配向部的配向位向皆不同。
    如第10A圖所示，於第四次曝光中，光感材料120依序經過第四光罩MA4之第一曝光單元MA41及第二曝光單元MA42的過程中，以第一曝光方向光線L1及第二曝光方向光線L2分別透過第一曝光單元MA41(第10B圖)及第二曝光單元MA42(第10B圖)照射光感材料120，以於第一畫素區SPA1、第二畫素區SPA2、第三畫素區SPA3及第四畫素區SPA4之每一者的其中一個子畫素區(未形成配向部之子畫素區)形成不同配向位向的配向部。本實施例中，可搭配偏光板，使第一曝光方向光線L1透過偏光板形成不同偏振方向的二光線分別照射至第一曝光單元MA41之第一子曝光單元MA41a及第二子曝光單元MA41b，以於第二畫素區SPA2之第三子畫素區SPA23及第四畫素區SPA4之第一子畫素區SPA41分別形成不同配向位向的配向部，如第10B圖所示。相似地，可搭配偏光板，使第二曝光方向光線L2透過偏光板形成二不同偏振方向的光線分別照射至第二曝光單元MA42之第一子曝光單元MA42a及第二子曝光單元MA42b，以於第一畫素區SPA1之第四子畫素區SPA14及第三畫素區SPA3之第二子畫素區SPA32分別形成不同配向位向的配向部，如第10B圖所示。本實施例中，形成於第三子畫素區SPA23、第一子畫素區SPA41、第四子畫素區SPA14及第二子畫素區SPA32的配向部的配向位向皆不同。
    綜合上述，於N等於2且M等於2的實施例中，在每次曝光後，第一畫素區SPA1之一子畫素區(未形成配向部之子畫素區)、第二畫素區SPA2之一子畫素區(未形成配向部之子畫素區)、第三畫素區SPA3之一子畫素區(未形成配向部之子畫素區)及第四畫素區SPA4之一子畫素區(未形成配向部之子畫素區)分別形成不同配向位向的配向部。如此，經過四次(N×M)曝光後，每個畫素區之所有的子畫素區皆形成不同配向位向的配向部。這樣一來，光感材料120之各畫素區可使應用其之顯示面板成為一多維顯示域的顯示面板。
    雖然上述實施例之光感材料120係以依序經過第一光罩MA1、第二光罩MA2、第三光罩MA3及第四光罩MA4為例說明，然另一實施例中，光感材料120經過第一光罩MA1、第二光罩MA2、第三光罩MA3及第四光罩MA4的順序可任意排列。
    本發明上述實施例之配向膜的形成方法，可於一次的曝光製程中，於各畫素區的其中一個子畫素區形成配向部，如此可節省製程時間並降低生產成本。此外，光感材料可在不被轉動的情況下經過所有光罩而完成光配向作業。
    綜上所述，雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
    120．．．光感材料
    130．．．基板
    D1．．．移動方向
    L1．．．第一曝光方向光線
    L2．．．第二曝光方向光線
    MA1．．．第一光罩
    MA2．．．第二光罩
    MA3．．．第三光罩
    MA4．．．第四光罩
    MA11、MA21、MA31、MA41．．．第一曝光單元
    MA11a．．．第一子曝光單元
    MA11b．．．第二子曝光單元
    MA12、MA22、MA32、MA42．．．第二曝光單元
    MA11’、MA12’、MA21’、MA22’、MA31’、MA32’、MA41’、MA42’．．．長條虛線
    SPA1．．．第一畫素區
    SPA11、SPA21、SPA31、SPA41．．．第一子畫素區
    SPA12、SPA22、SPA32、SPA42．．．第二子畫素區
    SPA13、SPA23、SPA33、SPA43．．．第三子畫素區
    SPA14、SPA24、SPA34、SPA44．．．第四子畫素區
    SPA2．．．第二畫素區
    SPA3．．．第三畫素區
    SPA4．．．第四畫素區
    第1、2及3A至4B圖繪示依照本發明一實施例之配向膜的形成過程圖。
    第5、6及7A至10B圖繪示依照本發明另一實施例之配向膜的形成過程圖。
    120．．．光感材料
    130．．．基板
    D1．．．移動方向
    L1．．．第一曝光方向光線
    L2．．．第二曝光方向光線
    MA1．．．第一光罩
    MA2．．．第二光罩
    MA11．．．第一曝光單元
    MA12．．．第二曝光單元
    权利要求:
    Claims (12)
    [1] 一種配向膜的形成方法，包括：提供一光感材料，該光感材料定義一第一畫素區及一第二畫素區，該第一畫素區與該第二畫素區各定義一第一子畫素區及一第二子畫素區；於一第一次曝光中，以一第一曝光方向光線及一第二曝光方向光線照射該光感材料，以於該第一畫素區之該第一子畫素區及該第二畫素區之該第二子畫素區分別形成不同配向位向的一第一配向部及一第二配向部；於一第二次曝光中，以該第一曝光方向光線及該第二曝光方向光線照射該光感材料，以於該第一畫素區之該第二子畫素區及該第二畫素區之該第一子畫素區形成不同配向位向的一第三配向部及一第四配向部。
    [2] 如申請專利範圍第1項所述之形成方法，更包括：提供一第一光罩及一第二光罩，其中該第一光罩與該第二光罩各具有一第一曝光單元及一第二曝光單元；於該第一次曝光之該步驟中，該第一曝光方向光線及該第二曝光方向光線分別照射該第一光罩之該第一曝光單元及該第二曝光單元；以及於該第二次曝光之該步驟中，該第一曝光方向光線及該第二曝光方向光線分別照射該第二光罩之該第一曝光單元及該第二曝光單元。
    [3] 如申請專利範圍第2項所述之形成方法，更包括：帶動該光感材料沿一移動方向移動，並經過該第一光罩及該第二光罩；其中，該第一光罩之該第一曝光單元及該第二曝光單元係沿該移動方向間隔一距離，且該第二光罩之該第一曝光單元及該第二曝光單元係沿該移動方向間隔一距離。
    [4] 如申請專利範圍第3項所述之形成方法，其中其中，該第一光罩之該第一曝光單元及該第二曝光單元係沿與該移動方向垂直的方向間隔一距離，且該第二光罩之該第一曝光單元及該第二曝光單元係沿與該移動方向垂直的方向間隔一距離。
    [5] 如申請專利範圍第1項所述之形成方法，其中該第一配向部與該第二配向部的配向位向相差180度。
    [6] 如申請專利範圍第1項所述之形成方法，其中該第三配向部與該第四配向部的配向位向相差180度。
    [7] 一種配向膜的形成方法，包括：提供一光感材料，該光感材料定義N×M個畫素區，該N×M個畫素區各定義N×M個子畫素區；於N×M曝光次數之每一次中，以M個不同曝光方向光線照射該光感材料，以於各N×M個畫素區之其中一個該子畫素區形成不同配向位向的複數個配向部，其中，N係各M個曝光方向光線的偏振位向的個數。
    [8] 如申請專利範圍第7項所述之形成方法，更包括：提供N×M個光罩，其中該N×M個光罩各具有M曝光單元；於該N×M曝光次數之每一次中以該M個不同曝光方向光線照射該光感材料之該步驟中，該M個曝光方向光線分別照射該M個曝光單元組。
    [9] 如申請專利範圍第8項所述之形成方法，更包括：帶動該光感材料沿一移動方向移動，以經過該N×M個光罩；其中，該M個曝光單元組沿該移動方向係間隔一距離。
    [10] 如申請專利範圍第9項所述之形成方法，其中該M個曝光單元組沿與該移動方向垂直的方向間隔一距離。
    [11] 如申請專利範圍第8項所述之形成方法，其中該N×M個光罩其中一者之各該M曝光單元具有N個子曝光單元，該N×M個子曝光單元對應該N×M個畫素區。
    [12] 如申請專利範圍第9項所述之形成方法，其中第P個曝光方向光線照射第P個曝光單元之該N個子曝光單元，以形成N個不同配向位向之配向部，其中P為1至M的正整數。
    类似技术:
    公开号 | 公开日 | 专利标题
    KR100675534B1|2007-01-29|회로디바이스나 표시디바이스의 제조방법, 및대형디스플레이장치
    JP2011232398A|2011-11-17|配向処理方法及び配向処理装置
    US10983397B2|2021-04-20|Phase film substrate, manufacturing method thereof, display device
    JP4697960B2|2011-06-08|パターンニング方法とこれに用いられる近接露光用の原版マスク
    TWI467324B|2015-01-01|配向膜的形成方法
    JP2000329906A|2000-11-30|マイクロレンズアレイ基板とその製造方法
    US7777860B2|2010-08-17|Exposure apparatus for flat panel display device and method of exposing using the same
    JP2012078697A|2012-04-19|液晶用配向膜露光方法及びその装置並びにそれを用いて製作された液晶パネル
    KR100310787B1|2002-01-09|렌즈어레이사진석판노출장치와그방법
    JP2004233861A|2004-08-19|マスク、露光方法及びデバイス製造方法
    JPWO2009150901A1|2011-11-10|露光装置および露光方法
    WO2017035909A1|2017-03-09|用于光配向的光罩及光配向方法
    TWI459098B|2014-11-01|光配向膜及其製作方法
    CN105416973B|2017-11-28|基板传送装置及基板曝边方法
    JP2011027824A|2011-02-10|露光方法、並びに露光装置
    JP4239640B2|2009-03-18|露光装置およびこの露光装置を用いた液晶素子製造方法
    TWI698703B|2020-07-11|圖案描繪方法、光罩之製造方法及顯示裝置用元件之製造方法
    JP5937873B2|2016-06-22|フォトマスク用基板セット、フォトマスクセット、及びパターン転写方法
    JP6738054B2|2020-08-12|露光装置、並びにディスプレイ及びデバイスの製造方法
    JP2019117403A|2019-07-18|露光装置、並びにディスプレイ及びデバイスの製造方法
    KR100806810B1|2008-02-25|노광기
    JPWO2012132561A1|2014-07-24|液晶用配向膜露光方法及びそのシステム並びにそれを用いて製作された液晶パネル
    JP2007114654A|2007-05-10|カラーフィルタ基板の製造方法
    JP6380728B2|2018-08-29|投影走査露光方法及びデバイス製造方法
    TW201903515A|2019-01-16|圖案計算裝置、圖案計算方法、罩幕、曝光裝置、元件製造方法和記錄媒體
    同族专利:
    公开号 | 公开日
    US20130130181A1|2013-05-23|
    US8802358B2|2014-08-12|
    TWI467324B|2015-01-01|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    CN101322067B|2005-12-02|2012-08-22|夏普株式会社|液晶显示装置的制造方法和用于配向处理的曝光装置|
    KR100911459B1|2008-08-06|2009-08-11|삼성전자주식회사|배향막 형성방법, 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조방법및 배향막 형성 장치|
    US20120064441A1|2009-05-29|2012-03-15|Shigeki Tanaka|Method for photo-alignment treatment, mask for photo-alignment treatment, and method for producing alignment film|
    JP5704591B2|2010-04-23|2015-04-22|株式会社ブイ・テクノロジー|配向処理方法及び配向処理装置|CN105892156B|2016-06-07|2019-05-03|深圳市华星光电技术有限公司|对透明基板进行曝光的方法|
    法律状态:
    2020-10-01| MM4A| Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees|
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    TW100142990A|TWI467324B|2011-11-23|2011-11-23|配向膜的形成方法|TW100142990A| TWI467324B|2011-11-23|2011-11-23|配向膜的形成方法|
    US13/669,659| US8802358B2|2011-11-23|2012-11-06|Method of forming alignment film|
    [返回顶部]